TECNOLOGÍAS DE DISPOSITIVO

PROGRAMA DE TEORÍA            BIBLIOGRAFÍA            CONOCIMIENTOS PREVIOS

PROGRAMA  DE TEORÍA

1.- Propiedades tecnológicas de los semiconductores.

2.- Crecimiento en volumen de semiconductores cristalinos. Producción de obleas.

3.- Crecimiento epitaxial.

4.- Impurificación local de semiconductores. Procesos de disfusión e implantación iónica.

5.- Crecimiento de películas nativas de aislante. Oxidación térmica. Nitridación térmica. Anodización electroquímica.

6.- Deposición de películas delgadas. Métodos. Caracterización. Películas para protección y máscaras. Deposición de películas metálicas. Contactos óhmicos y Schottky.

7.- Procesos litográficos.

8.- Grabado. Grabado húmedo. Grabado seco. RIE.

9.- Tecnologías de fabricación de circuitos integrados. Tipos de aislamientos. Autoalineamiento. Oxidación local. Tecnología CMOS. Tecnología bipolar. Tecnología BICMOS. Tecnologias de fabricación de memorias semiconductoras. Tecnologías III-V.

10.- Técnicas de diagnstico. Ensamblado y empaquetado de circuitos integrados. 

11.- Simulación de procesos.

BIBLIOGRAFÍA

1.- S. M. Sze: "Semiconductor Devices. Physics and Technology". John Wiley and Sons, 1985.

2.- Sze S.M.: "VLSI Technology", McGraw-Hill, 1983.

3.- S. Wolf: "Silicon Processing for the VLSI Era", Volumes 1 to 3. Lattice Press, 1986.

4.- S. K. Ghandi: "VLSI Fabrication Principles. Silicon anf Gallium Arsenide", John Wiley and Sons, 1994.